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科创中国 | 清溢光电：高端材料双翼齐飞 助力科技自立自强

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访谈报道

清溢光电：已成功实现150nm工艺节点掩膜版的小规模量产

聚焦

12月5日，清溢光电在最新的投资者关系活动记录表中透露，目前，公司半导体掩膜版业务收入占比约为20%，公司佛山生产基地总投资35亿元，其中高精度平板显示掩膜版基地投资20亿元，高端半导体掩膜版基地投资15亿元。在半导体芯片掩膜版技术方面，公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产，以及150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的小规模量产，正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

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